ASML 노광기. 사진제공=ASML
반도체 노광기 속에서는 이런 일이 벌어지고 있습니다. 포토마스크는 빛의 모양을 만들어주는 일종의 탬플릿(빵빵자) 같은 역할을 하고 있네요. 사진제공=인텔
일직선(맨 오른쪽) 레이저를 다양한 모양으로 바꿔주는 필터가 마스크 역할과 유사합니다. 사진제공=구글
인텔이 공개한 마스크 모양. 중간에 빛나고 있는 부분이 회로 모양이 새겨진 부분이고, 가장자리에는 각종 식별(align) 마크가 표시돼 있습니다. 가로 6인치, 세로 6인치 크기입니다. 사진제공=인텔
사진제공=호야, 인텔
사진=ASML
EUV를 반사시키는 방법을 찾던 엔지니어들은 40겹 이상, 10나노 이하 두께로 몰리브덴과 실리콘을 겹겹이 쌓은 EUV용 마스크를 만들어냅니다. 몰리브덴과 실리콘이 닿은 곳은 반사되고, 그렇지 않은 곳은 흡수되는 방식입니다. 사진제공=어플라이드 머티어리얼즈
IMS의 라이터 장비. 사진제공=IMS 나노페브리케이션
기존 라이터가 한개 빔의 모양을 바꿔가면서 회로를 새긴 방식이라면, 멀티빔 마스크 라이터는 26만개 빛이 일사불란하게 움직여서 정교하고 빠르게 회로를 만들 수 있습니다. 자료=IMS
윤석열(오른쪽) 대통령과 이종호 과학기술정보통신부 장관이 지난 7일 국무회의에서 반도체 포토마스크를 살펴보고 있습니다. 사진제공=대통령실
