국제엘렉트릭은 7일 코스닥시장에서 전날 보다 7.58%(1,350원) 급등한 1만9,150원에 거래를 마감했다.
반도체 전공정장비인 종형확산로(Diffusion Furnace), 저압 화학기상증착(LP-CVD), 그리고 원자층 증착방식 성막장치(ALD)를 생산하고 있는 국제엘렉트릭은 삼성전자와 하이닉스 등의 반도체업체의 투자확대에 따른 수혜 증가가 기대되고 있다.
유철환 우리투자증권 연구원은 “국제엘렉트릭은 삼성전자의 낸드플래시(16라인) 증설 지속과 D램 공정미세화 진행에 따른 장비매출 증가가 기대되고 있다”며 “삼성전자의 시스템LSI 투자확대에 따른 수혜도 전망된다”고 말했다. 하이닉스 투자 재개에 따른 추가 매출기반도 확보했다는 분석이다.
유 연구원은 “반도체 칩메이커들의 투자확대에 따른 성장모멘텀으로 국제엘렉트릭은 올해 매출액과 영업이익은 각각 2,221억원, 345억원을 기록해 고성장을 이어갈 것으로 전망된다”고 말했다.
올해 예상실적 대비 주가수익비율(PER) 6.1배라는 점도 저평가 매력으로 부각되고 있다. 유 연구원은 “국내외 반도체장비업체들의 올해 예상실적 대비 PER은 10~18배 수준을 감안하면 국제엘렉트릭 주가의 상승여력은 충분한 것으로 판단된다”고 설명했다.
